Siウエハのデバイスで使われる保護膜・絶縁膜は、一般的にはSiO2、SiN、特殊な例ではTaOが使われる。SiO2の成膜方法にはどんな種類があるのか。 SiO2の成膜方法概要 ...

名古屋工業大学セラミックス基盤工学研究センターの藤正督センター長・教授の研究グループは、SiO2（シリカ）製のナノ中空粒子を樹脂内に均一に分散させる技術を開発し、窓ガラスなどに貼る断熱フィルムに応用する基盤技術を確立した（図1）。

日々、ChatGPTをはじめとするLLMと対話を続けています。 AIについて学んでいると、自然と半導体の話に行き着くことが多く、両者は切り離せない関係にあると感じています。 先日、半導体の構造について学ぶ中で、シリコン上に形成される絶縁層について ...