米Applied Materials(AMAT)は7月9日(米国時間)、サブ20nmに対応したウェハ検査装置「Applied UVision 5」を発表した。 同装置は、DUV(深紫外線)レーザの他、明視野・散乱光(グレイフィールド)の同時集光機能を備え、ウェハ上の光強度が従来装置より最大で2倍まで高め ...