ナノインプリントリソグラフィ（NIL）
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ナノインプリントリソグラフィ（NIL）
高性能な半導体に必要となる微細パターンを形成することができる技術です。半導体製造時の露光工程における消費電力を、従来の技術と比較して約1/10に低減させることが可能です。
2022年5月10日
ナノインプリント・リソグラフィの原理
キヤノン、IAP技術で半導体ウエハー平坦化を革新―5nm以下の精度で2027年製品化へ
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